设备名称 :等离子增强化学气相沉积PECVD 
品牌型号: SAMCO PD-220NL 

设备用途
主要用于二氧化硅和氮化硅介质膜沉积

主要技术指标：
气体：SIH4 CF4 PN2 NH3 N20 O2
沉积速率：> 30nm/min
均匀性：片内小于±5%，片间小于±5%，批次小于±5%

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