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设备名称：电子束曝光机 晶圆级制造
设备用途：电子束曝光是利用加速的聚焦电子束在抗蚀剂上曝光，显影后便可在抗蚀剂上得到相对应的微纳结构；用于各种高精度图形结构的制备。
主要技术指标：
加速电压：50kV
电子束电流：10pA~100nA
可加工尺寸：2inch、3inch、4inch、5inch和≥1cm不规则片
分辨率：10nm
套刻精度：50nm
