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设备名称：手动紫外光刻机 品牌型号 ABM
设备用途
光刻机发出的紫外光通过具有特定图形结构的掩膜版对样片曝光，然后通过显影将掩膜版上的图形结构转移到样片表面的光刻胶上。
主要技术指标：
曝光波长：350nm---450nm
可加工尺寸：2inch 3inch晶圆和≥1.5cm2碎片
极限分辨率：3um
正面套刻精度：≤1um
线宽均一性：≤3％
曝光模式：接触式曝光、接近式曝光
